Prêtable
| Titre : | Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse |
| Auteurs : | Yves Pauleau |
| Type de document : | texte imprimé |
| Editeur : | Paris [France] : Lavoisier, 2004 |
| ISBN/ISSN/EAN : | 978-2-7462-0948-0 |
| Format : | 415 p. / couv. en coul.; ill. / 24 cm. |
| Langues: | Français |
| Langues originales: | Français |
| Index. décimale : | 620.44 (Technologie des surfaces) |
| Catégories : | |
| Mots-clés: | Procédés chimiques ; Procédés photochimiques ; Activation thermique ; Activation (Plasma) ; Procédés photo-DVD ; Laser-induced CVD (Chemical Vapor Deposition) |
| Résumé : |
Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une phase gazeuse. Ces procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement).
Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu : activation thermique, activation par plasma (plasma-enhanced CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo- CVD et laser-induced CVD). Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche et développement ainsi que dans le secteur production de couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les principes, les modèles et les principales données fondamentales concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau industriel. |
| Note de contenu : |
Sommaire :
Chapitre 1: Présentation générale des procédés Partie 1: Procédés CVD thermiquement activés Chapitre 2: Étude thermodynamique Chapitre 3: Régimes d'écoulement gazeux Chapitre 4: Dynamique de l'écoulement gazeux Chapitre 5: Cinétique de croissance des couches limitée par le transfert de matière en phase gazeuse Chapitre 6: Cinétique de croissance des couches limitée par les processus de surface Chapitre 7: Influence du transfert de matière sur la morphologie des couches déposées Chapitre 8: Procédés chimiques de dépôt sélectif Partie 2: Procédés CVD activés par plasma Chapitre 9: Décharge électrique dans un gaz sous basse pression Chapitre 10: Procédés d'ionisation d'un gaz sous basse pression Chapitre 11: Principes et applications des procédés CVD activés par plasma Partie 3: Procédés CVD activés par un faisceau de photons Chapitre 12: Procédés photochimiques de dépôt Chapitre 13: Procédés de dépôt sous irradiation laser |
Exemplaires (8)
| Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité |
|---|---|---|---|---|
| F8/7293 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/7294 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/7295 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/7296 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/8087 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/8088 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/8089 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
| F8/8090 | Livre | Bibliothèque de la Faculté de Technologie | Salle des livres | Disponible |
